产品概述：

诺泰PT-V1200-LG 1200℃高校实验室坩埚炉集控制系统与炉膛一体，其中炉膛保温材料采用整体真空吸附成型，加热元件采用优质硅钼棒。超大口径的石英炉腔和真空密封法兰系统，可在流动气氛和真空状态下快速加热样品。主要用于金属、非金属及化合物材料进行烧结、融化、分析。控制面板配有智能温度调节仪，控制电源开关、主加热工作/停止按钮，以便随时观察。

适用范围：

该款坩埚熔化炉的各项指标均达到了国际先进水平，主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片，也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。