中性清洗

别看只是清洗，却很有讲究。清洗剂要使用中性的，因为碱性的清洁剂会腐蚀车漆，如果残存在车体缝隙中，腐蚀性就更大了，建议您使用中性洗车剂，避免伤害车漆。

粘土打磨

由于长期积存的尘土、胶质、飞漆等脏污很难靠清洗来去除，因此经过清洗的车漆表面仍然是毛毛糙糙的，这就需要用一种从细腻火山灰中提炼出来的“去污粘土”进行的打磨处理。

深度清理

就像人皮肤上的毛孔需要清理一样，车漆的毛孔也需要清洁。使用静电抛光轮，配以增艳剂，在旋转的同时产生静电，将毛孔内的脏物吸出。同时，增艳剂渗透到车漆内部，发生还原反应，可以达到车漆增艳如新的效果。抛磨的另外一个功效是可将车漆表面细小的软道划痕磨平。

氧化硅抛光液氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。

半导体行业 CMP技术还广泛的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展，对抛光技术提出了新的要求，传统的抛光技术（如：基于淀积技术的选择淀积、溅射等）虽然也可以提供“光滑”的表面，但却都是局部平面化技术，不能做到全局平面化，而化学机械抛光技术解决了这个问题，它是可以在整个硅圆晶片上平坦化的工艺技术。

抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，抛光液具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品显露出真实的金属光泽。性能稳定、，对环境无污染等优点。

抛光液作为金属加工液检测种类的重要一员，对金属表面的打磨处理，满足平坦化需求起着关键性的作用。抛光液适用于铅锡合金， 铜， 锌合金， 不锈钢， 铝合金， 铁等金属零部件的抛光， 光亮度可达 12 级， 可取代多种进口抛光剂和抛光粉。

封釉的作业时间大约需要4～5个小时，以下是封釉的五道工序：

中性清洗

别看只是清洗，却很有讲究。清洗剂要使用中性的，因为碱性的清洁剂会腐蚀车漆，如果残存在缝隙中，腐蚀性就更大了，建议您使用中性洗剂。

粘土打磨

由于长期积存的尘土、胶质、飞漆等脏污很难靠清洗来去除，因此经过清洗的表面仍然是毛毛糙糙的，这就需要用一种从细腻火山灰中提炼出来的“去污粘土”进行的打磨处理。

深度清理

就像人皮肤上的毛孔需要清理一样，毛孔也需要清洁。使用静电抛光轮，配以增艳剂，在旋转的同时产生静电，将毛孔内的脏物吸出。同时，增艳剂渗透到车漆内部，发生还原反应，可以达到增艳如新的效果。抛磨的另外一个功效是可将表面细小的软道划痕磨平。

无论使用封釉1号、2号、精钢釉中的任何一种，或者混合使用，能在机器抛之前均匀的分布到地面上。可以使用滚筒、毛刷，也可以想其他方法。

实际操作中，我们建议大家可分布的更均匀一些。一些熟练工人用这种方法抛VD精钢釉，做出来的效果又润又亮，能够真正发挥出封釉技术的各种优点。

3、遍、第二遍、第三遍，操作不同

封釉有个特点：由于它是物理覆盖作用，它在抛遍的时候，要先填补石材表面的纳米级、微米级的凹凸不平。根据这种现象，想要使用封釉做出好效果，有如下技巧：

遍：封釉量放足一些，启动晶面机+封釉垫，均匀抛磨。但是不要抛干。并且等待10~15分钟，再抛第二遍。

第二遍：用量递减。启动晶面机+封釉垫，均匀抛磨。注意也不要抛干。然后再等待10~15分钟，再抛第三遍。

第三遍：用量递减。启动晶面机+封釉垫，均匀抛磨，抛干至出光即可。